• Publications
• A list of patents

---

Publications

1. A. Brudnik, A. Czapla, W. Posadowski, C. Worek, Porównanie charakterystyk rozpylania magnetronowego przy zasilaniu stałoprądowym oraz stałopradowym impulsowym modulowanym, (Comparision of magnetron sputtering characteristics in d.c. and dc-pulse modulated supply), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-27 maja (1998).
   
   
2. A. Brudnik, W. Posadowski, A. Czapla, Emisyjna spektroskopia plazmy w magnetronach dużej gęstości mocy, (Investigation of high power magnetron sputtering using optical emission spectroscopy), Mat. X Jubileusz. Międzyn. Szkoły Letniej, Mielno’98 “ Moredn Plasma Surface Technology”, Mielno, 11 - 15 maja (1998) 177.
   
   
3. A. Brudnik, W. Posadowski, A. Czapla, Optical emission spectroscopy in high target power density magnetron source, (Optyczna spektroskopia emisyjna magnetronowych źródeł o dużej gęstości mocy), Proc. of 6^th Int. Symp. “Trends and New Applications of Thin Films” (TATF’98), Regensburg, Germany, March (1998) 311.
   
   
4. M. Czapkiewicz, J. Wrona, W. Powroźnik, T. Stobiecki, Charakterystyki magnetyczne i magnetorezystancyjne zaworu spinowego, (Magnetic and magnetoresitivity characteristics of the spin valve system), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-27 maja, (1998) 321.
   
   
5. M. Czapkiewicz, J. Wrona, T. Stobiecki, F. Stobiecki, F.J. Castano, Oscylacyjne sprzężenie magnetyczne w strukturach wielowarstwowych
   Ni-Fe/Cu, (Oscillatory coupling in NiFe/Cu multilayers), Mat. I Kongr. P.T.P., Kraków, 25-27 maja , (1998) 350.
   
   
6. J. Dryzek, A. Czapla, The trapping model for positrons diffusing inside the grain of arbitrary shape, (Model wychwytu pozytronów dyfundujących w ziarnach o dowolnym kształcie), J. Phys.: Condens. Matter vol.10 (1998) L547.
   
   
7. J. Dryzek, A. Czapla, E. Kusior, Positron annihilation studies of the multilayer Cu-Cu₃Sn system, (Badania anihilacji pozytronów w wielowarstwowym układzie Cu-Cu₃Sn), J. Phys.: Condens. Matter, vol. 10 (1998) 10827.
   
   
8. T. Habdank-Wojewódzki, Własności elektryczne kompozytów polimerowo-grafitowo-indowych, (Electrical properties of polymer-graphite-indium composites) Mater. VI Kraj. Symp. “Przewodniki Szybkich Jonów”, Kraków-Mogilany, 10-12 września 1997 (1998) 93.
   
   
9. T. Habdank-Wojewódzki, W. Rakowski, S. Zimowski, S. Habdank-Wojewódzki, Modele: dynamiczny strukturalny oraz cieplny styku w węźle tarcia jako półprzewodnikowym sensorze temperatury, (Dynamic,structural and heat models of friction pair contact as a semiconductor temperature sensor), Mater. V Konf. Nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, t.II (1998) 703.
   
   
10. T. Habdank-Wojewódzki, T. Pisarkiewicz, P. Potempa, S. Habdank-Wojewódzki, Model warstwy termistorowej jako czujnika ozonu, (The model of thermistor layer as an ozone sensor), Mater. V Konf. nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, t.II (1998) 709.
    
    
11. H. Jankowski, St. Nowak, C. Worek, Multilayer resistive materials with temperature coefficient of resistance close to zero, (Wielowarstwowe materiały rezystywne z temperaturowym współczynnikiem rezystancji bliskim zeru), Proc. of XXII IMAPS- Poland Conf., Zakopane, 1-3 Oct. (1998) 72.
    
    
12. H. Jankowski, S. Nowak, C. Worek, W. Posadowski, Ni/Cu and Ni/Cr multilayered resistors sputtered by medium frequency magnetron method (Rezystory wielowarstwowe Ni/Cu i Ni/Cr rozpylane magnetronowo przy zasilaniu średnimi czestotliwościami), Proc. of II Int. Symp. ION’98 “Ion implantation and other application of ions and electrons”, Kazimierz Dolny, 16-19 June (1998) 73.
    
    
13. H. Jankowski, C. Worek, W. Posadowski, Wielowarstwowe materiały rezystancyjne Ni/Cu i Ni/Cr, (Multilayer resistive materials Ni/Cu and Ni/Cr), Mater. X Jubileusz. Międzyn. Szkoły Letniej “Mielno’98”, Mielno, 11-15 maja, (1998) 191.
    
    
14. A. Kołodziej, P. Krewniak, Matrycowe sensory promieniowania X, (X-ray matrix sensors), Mater. V Konf. Nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, (1998) t.II, 495.
    
    
15. A. Kołodziej, P. Krewniak, Comparison of Properties of a-Si:H TFT’s obtained in temperature ranges 250-300^oC and 160-180^oC, (Porównanie własności tranzystorów TFT wytwarzanych w temperaturach 250-300 ^oC i 160-180^oC), Proc.of “ Chelsea Amorphous and Organic Semiconductors Meeting”, London, 2-3.Apr., (1998).
    
    
16. A. Kołodziej, P. Krewniak, R. Tadeusiewicz, X-Ray matrix sensors, (Matrycowe sensory promieniowania X), Proc. of 5th Int. Conf. SPIE “Optoelectronic and Electronic Sensors”, Jurata, 10-13 May, (1998) .
    
    
17. A. Kołodziej, P. Krewniak, X-ray matrix sensors based on a-Si:H and iodide materials obtained by sputtering method, (Matrycowe sensory promieniowania X wytwarzane na bazie jodków metodą rozpylenia magnetronowego), Proc. of 34^th Int. Conf. Microelectr., Devices and Mat. MIDEM’98, Rogaska Slatina, Slovenia, 23-25 Sept., (1998).
    
    
18. A. Kołodziej, P. Krewniak, Nanocrystalline structure of a-Si:H image sensor obtained on glass and on polyimide foil, (Struktura nanokrystaliczna warstw a-Si:H sensora obrazu wytworzonego na szkle i filii poliimidowej), Proc. of MRS Fall Meeting, “Microcrystalline and Nanocrystalline Semiconductors”, Boston, 29 Nov. - 4 Dec., (1998).
    
    
19. A. Kołodziej, P. Krewniak, Properties of image sensor structure TFT and PIN photodiode obtained in low temperature, (Własności struktur tranzystorów TFT i fotodiod PIN sensora obrazu wytworzonych w niskiej temperaturze), Proc. of XXII Int. Conf., Zakopane, 1-3 Oct., (1998) 75.
    
    
20. A. Kołodziej, P. Krewniak, X-ray sensor with PBI₂ photoconducting film, (Sensory promieniowania X z warstwą fotoprzewodzącą PbI₂), Proc. of XXII Int. Conf. IMAPS, Zakopane, 1-3 Oct., (1998) 76.
    
    
21. E. Leja, K.Marszałek, T.Pisarkiewicz, ARC technology in materials science, (Technologia łukowa w badaniach materiałowych), Proc. of XV Phys. Metallurgy and Mater. Science Conf. AMT’98, Kraków-Krynica, 17-21 May, (1998) 963.
    
    
22. E. Leja, K. Marszałek, Ion technologies for metal surface modification, (Technologie jonowe w modyfikacji powierzchni metali), Proc. of Int. Conf. “European Metallurgy - Today and in Future”, Kraków, 16-18 Nov., (1998) 15/T.
    
    
23. M. Lubecka, L.J. Maksymowicz, R. Szymczak, W. Powroźnik, Determination of the internal magnetic field from the A - T critical line in magnetic semiconductor thin films, (Wyznaczanie wewnetrznego pola magnetycznego z linii krytycznych A - T w cienkich wrastwach półprzewodników magnetycznych), J. of Magnet. and Magnetic Mat., vol. 177-181, (1998) 97.
    
    
24. M. Lubecka, L. J. Maksymowicz, R. Szymczak, W. Powroźnik, Magnetic semiconductors thin films - unidirectional anisotropy, (Cienkie warstwy półprzewodników magnetycznych - jednozwrotowa anizotropia), Proc. of 4^th Polish-Korean Sem. “Phys. Prop. of Magnetic Mater.”, Cheongju, Korea, 18-22 Aug.,(1998) 20.
    
    
25. M. Lubecka, L. J. Maksymowicz, R. Szymczak, Critical lines of magnetic semiconductor thin films - REE, (Linie krytyczne cienkich warstw półprzewodników magnetycznych - REE), Proc. of 7^th Europ. Magnetic Mat. and Applications Conf. “EMMA’98”, Zaragoza, Hiszpania, 9-12 Sept., (1998) 93.
    
    
26. K. Marszałek, E. Leja, Przemysłowe urządzenie do produkcji powłok dekoracyjnych ze źródłem łukowym, (Industrial line for decorative coatings production with columnar type ARC ), Mat. 10 Jubileusz. Międzynarod. Szkoły Letniej Mielno’98 “Moderna Plasma Surface Technology”, Mielno, 11-15 maj , (1998) 283.
    
    
27. K. Marszałek, E.Leja, Przemysłowe urządzenie dla pokryć dekoracyjnych ze źródłem łukowym, (Industrial equipment for decorative coatings with ARC source), Mat. Kongresu P.T.P., Kraków, 25-30 maja, (1998) P.I.16.
    
    
28. K. Marszałek, E. Leja, Industrial ARC based equipment for decorative coating deposition, (Przemysłowy system z parownikiem łukowym dla pokryć dekoracyjnych), Proc. of II Int. Symp. “Ion Implantation and other Application of Ions and Electrons”, ION’98, Kazimierz Dolny, 16-19 June, (1998) 157.
    
    
29. L.J. Maksymowicz, M. Lubecka, R. Jabłoński, Contribution of the close-to-surface grad (M) to the surface magnetic anisotropy energy in thin films of CdCr_2-2xIn_2xSe₄, (Udział “close-to-surface” grad (M) w energii powierzchniowej anizotropii magnetycznej w cienkich warstwach CdCr_2-2xIn_2xSe₄), J. of Magnet.Magnetic Mat. 177-181, (1998) 1265.
    
    
30. L.J. Maksymowicz, M. Lubecka, SWR as the tool for determination the surface magnetic anisotropy energy constant, (SWR w zastosowaniu do wyznaczania stałej powierzchniowej anizotropii magnetycznej), Prof. of 4^th Polish-Korean Sem. “Phys. Properties of Magnetic Mat.”, Cheongju, Korea, 18-22 Aug., (1998) 17.
    
    
31. L.J. Maksymowicz, M. Lubecka, SWR as the tool for determination the surface magnetic anisotropy energy constant, (SWR w zastosowaniu do wyznaczania stałej powierzchniowej anizotropii magnetycznej), Journal of Magnetics 3(4), (1998) 105-111.
    
    
32. L.J. Maksymowicz, M. Lubecka, R. Jabłoński, J. Sokulski, Magnetic anisotropy of semiconductor thin films, (Anizotropia magnetyczna cienkich warstw półprzewodnikowych), Proc. of 7^th Europ. Conf. “Magnetic Mat. and Applications”, ”EMMA’98”, Zaragoza, Spain, 9-12 Sept. (1998) 87.
    
    
33. T. Pisarkiewicz, Matryce sensorów w analizie gazów, (Gas analysis by sensor arrays), Mat. V Konf. Nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, (1998) 109.
    
    
34. T. Pisarkiewicz, P. Potempa, T. Habdank-Wojewódzki, T. Stapiński,
    P. Wójcik, Zastosowanie logiki rozmytej do eliminacji zakłóceń w działaniu półprzewodnikowego sensora gazu, (Fuzzy logic in the improvement of semiconductor gas sensor performance), Mat. V Nauk. Konf. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, (1998) t.II, 715.
    
    
35. T. Pisarkiewicz, T. Stapiński, P. Wójcik, Photoconductivity in amorphous silicon in a wide temperature range, (Fotoprzewodnictwo w amorficznym krzemie w szerokim zakresie temperatur), Proc. of 43 Int. Wissenschaftliches Kolloquium, Ilmenau, Niemcy, 21-24 Sept. (1998) 500.
    
    
36. T. Pisarkiewicz, T. Habdank-Wojewódzki, M. Cież, Microwelding of leads to the film structures working at elevated temperatures, (Mikrozgrzewaie doprowadzeń do struktur pracującycyh w podwyższonych temperaturach), Ed. by G. Harman and P. Mach , Microelectronic Interconnections and Assembly, Kluwer Academic Publishers, (1998) 179.
    
    
37. T. Pisarkiewicz, S. Kuta, A measurement set-up for photoconductivity decay experiments, (Układ pomiarowy do badania fotoprzewodnictwa zaniku), Meas. Sci. Technol., vol. 9, (1998) 1007.
    
    
38. T. Pisarkiewicz, A. Kowal, T. Stapiński, P. Potempa, T. Habdank-Wojewódzki, P. Wójcik, Influence of humidity and working temperature on the sensitivity of indium oxide ozone sensor, (Wpływ wilgotności i temperatury pracy na czułość sensora ozonu na bazie tlenku indu), Proc. of 21^st Int. Conf. of ISHM, Ustroń, 5-8 Oct., 1997 (1998) 234.
    
    
39. Z. Porada, E. Schabowska-Osiowska, Optoelektroniczny układ mnożący sygnały elektryczne, (Optoelectronic system as a multiplier of the electric signals), Mat. V Konf. Nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne” , Jurata, 10-13 maja, (1998) t. II, 651.
    
    
40. Z. Porada, E. Schabowska-Osiowska, Thin film display with optoelectronic systems for picture storage, (Cienkowarstwowy wyświetlacz z zastosowaniem układów optoelektronicznych do zapamiętywania obrazów), Proc. of 21^st Int. Conf. of ISHM, Ustroń, 5-8 Oct. (1998) 237.
    
    
41. Z. Porada, E. Schabowska-Osiowska, Wyświetlacz zapamiętujący obrazy, (A picture storing projector), “Elektronizacja”, N.3, (1998) 21.
    
    
42. Z. Porada, E. Schabowska-Osiowska, Układy mnożące sygnały elektryczne, (Electric signals multiplying systems), “Elektronizacja”, N.7-8, (1998) 16.
    
    
43. Z. Porada, E. Schabowska-Osiowska, Variations of parameters of thin film photoconducting elements caused by aging process and their influence on the characteristics of an electric signals delaying EL-PC system, (Zmiany parametrów fotoprzewodzących elementów poddanych procesowi starzenia i ich wpływ na charakterystyki układu PC-EL opóźniającego sygnały elektryczne), Proc. of 12^th European Symp. “ Passive Components”, Nice, France, 13-16 Oct. (1998) 127.
    
    
44. Z. Porada, E. Schabowska, Electroluminescent display with picture storage, (Elektroluminescencyjny wyswietlacz zapamiętujący obrazy), Active and Passive Elec. Comp., vol. 21, N. 4, (1998) 309.
    
    
45. T. Stapiński, T. Pisarkiewicz, Piezorezystancyjny sensor na bazie mikrokrystalicznego stopu krzem-węgiel, (Microcrystalline piezoresistive silicon-carbon sensor), Mat. V Konf. Nauk. “Czujniki Optoelektroniczne i Elektroniczne”, Jurata, 10-13 maja, (1998) t.II, 599.
    
    
46. T. Stapiński, Amorphous silicon-based alloys for optoelectronic applications, (Optoelektroniczne zastosowania amorficznych stopów na bazie krzemu), Proc. of 21^st Int. Conf. of ISHM, Ustroń, 5-8 Oct., (1998) 257.
    
    
47. T. Stapiński, G. Ambrosone, U. Coscia, F. Giorgis, C.F. Pirri, Defect characterization of a-SiC:H and a-SiN:H alloys produced by ultrahigh vacuum plasma enhanced chemical vapor deposition in different plasma conditions, (Charakteryzacja defektów w stopach a-SiC:H i a-SiN:H otrzymywanych metodą PECVD w różnych warunkach wyładowania plazmowego, Physica B, vol. 254 ,(1998) 99.
    
    
48. M. Sokołowski, M. Jachimowski, H. Czternastek, E. Kusior, Filtry wielowarstwowe na bazie srebra i tlenków metali odbijajace promieniowanie podczerwone, (Infrared reflecting multilayer filters based on Ag and metal - oxides), Mat. Kongr. P.T.P., Kraków, 25-30 maja, (1998) 249.
    
    
49. M. Sokołowski, M. Jachimowski, Mikroprocesorowy system sterowania procesem magnetronowego nanoszenia wielowarstwowych pokryć na tworzywa sztuczne, (Microprocessor control of magnetron sputtering system for multilayer coating deposition on plastic substrates), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-30 maja, (1998) 135.
    
    
50. E. Klimiec, T. Stobiecki, W. Zaraska, Ceramic composite resistor of B₄C modified by TiO₂ and glass phase, (Ceramiczny rezystor kompozytowy na bazie B₄C modyfikowanego TiO₂ i fazy szklistej), Proc. of XV Conf. AMT’98,” Phys. Metallurgy and Materials Science” , Kraków-Krynica, 17-21 May, (1998) 864.
    
    
51. M. Kopcewicz, J. Jagielski, A. Grabias, F. Stobiecki, T. Stobiecki, Structural Transformations in Fe/Zr BI- and multilayers induced by ion-beam mixing, (Przemiany strukturalne w układach dwu- i wielowarstwowych Fe/Zr wywołane mieszaniem jonowym), “Hyperfine Interaction”, vol. 112, (1998) 25.
    
    
52. T. Stobiecki, M. Czapkiewicz, J. Wrona, W. Powroźnik, F. Stobiecki, The structure, magnetic and magnetoresistivity characteristics of the spin valve system, (Własności strukturalne, magnetyczne i magnetorezystancyjne zaworu spinowego), Proc. of 4^th Polish-Korean Seminar “Physics Properties of Magnetic Materials”, Cheongju, Korea, 18-22 Aug., (1998) 26.
    
    
53. T. Conradi, F. Hubenthal, K. Roll, T. Stobiecki, K. Thoma, G. Berg, E. Broszeit, S. Bauer, W. Bock, M. Scheib, D. Wiescher, H. Oechsner, Spannungsanisotropie und struktur von TiN-schichten, (Anizotropia naprężeń i struktura cienkich warstw TiN), Mat.- wiss. u. Werkstofftech., vol. 29, (1998) 476.
    
    
54. A. Paja, T. Stobiecki, M. Oszajec, U. Krey, The resistivity of amorphous Fe_1-xZr_x alloys in the ferromagnetic region, (Rezystancja amorficznych stopów Fe_1-xZr_x w obszarze ferromagnetycznym), J. of Magnet. and Magnetic Mat., vol. 186, (1998) 104.
    
    
55. T. Stobiecki, Solid state amorphization in magnetic multilayers, (Reakcja amorfizacji w ciele stałym w magnetycznych układach wielowarstwowych), “Electron Technology”, vol. 31, N.1,(1998) 88.
    
    
56. Magnetic and electrical transport properties of Fe/Zr and Fe/Ti multilayers, (Magnetyczne i elektryczne właściwości układów wielowarstwowych Fe/Zr i Fe/Ti), Thin Solid Films, vol. 317, (1998) 306.
    
    
57. T. Stobiecki, F. Stobiecki, M. Czapkiewicz, F.J. Castano, J.L. Munoz,
    J. Wrona, Oscillatory coupling in NiFe/Cu multilayers with low coercivity, (Oscylacyjne sprzężenie w układach wielowarstwowych o niskiej koercji NiFe/Cu), Proc. of 7^th European Conf. “Magnetic Materials and Applications”, Zaragoza, Spain, 9-12 Sept., (1998) 63.
    
    
58. T. Stobiecki, F. Stobiecki, M. Czapkiewicz, F.J. Castano, J. Wrona, Oscylacyjne sprzężenie magnetyczne w strukturach wielowarstwowych Ni/Fe/Cu, (Oscilatory exchange coupling in the multilayered NiFe/Cu structures), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-30 maja, (1998) 350.
    
    
59. M. Kopcewicz, A. Grabias, J. Jagielski, T. Stobiecki, Influence of ion irradiation on the microstructure of Fe/Ti multilayers, (Wpływ bombardowania jonowego na mikrostrukturę układów wielowarstwowych Fe/Ti), Proc. of Symp. MRS, 1997 Fall Meeting, 1-5 Dec., Boston, USA, vol. 504, (1998) .
    
    
60. F. Stobiecki, T. Luciński, J. Dubowik, B. Szymański, M. Urbaniak, F.J. Castano, T. Stobiecki, The effect of pinholes on magnetic behaviour of antiferromagnetically coupled Ni-Fe/Cu multilayers, Proc. of 4^th Polish-Korean Semin. “Phys. of Magnetic Mat.”, Cheongju, Korea, 18-22 Aug., (1998) 24.
    
    
61. F. Stobiecki, T. Luciński, J. Dubowik, B. Szymański, M. Urbaniak, F.J. Castano, T. Stobiecki, The effect of pinholes on magnetic behaviour of antiferromagnetically coupled Ni-Fe/Cu multilayers, Journal of Magnetics wol.3,N.3, (1998) 89-92.
    
    
62. T. Stobiecki, Solid state amorphisation in magnetic multilayers, Proc. of 3^rd Japan - Central Europe Joint Workshop on Modelling and Simulation of Non-linear Engineering Systems and Related Phenomena, 27-30 Sept., Bratislava, Slovakia, (1998) 21-26.
    
    
63. T. Stobiecki, M. Czapkiewicz, J. Wrona, W. Powroźnik, F. Stobiecki, The structure and the magnetic and magnetoresistive characteristics of the spin valve multilayers, Journal of Magnetics, vol.3,N.3, (1998) 92-95.
    
    
64. Z. Szklarski, The demons in physics, (Demony w fizyce), Proc. of Congr. “Global on Engineering Education”, Kraków, 6-11 Sept., (1998) 318.
    
    
65. C. Worek, H. Jankowski, S. Nowak, Statystyczne planowanie eksperymentu w próżniowym wytwarzaniu struktur rezystancyjnych, (Statistical modeling of the experiment for the deposition of resistive structures), ,Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-30 maja, (1998) P.II.10.
    
    
66. C. Worek, H. Jankowski, F. Ciura, Electrical properties and transmission electron microscopy study on sputtered Cu/Ni multilayer films, ( Własności elektryczne oraz badania mikroskopowe (TEM) układów wielowarstwowych Cu/Ni), Proc. of XV Conf. AMT’98, “Metallurgy and Materials Science Conference”, Kraków-Krynica, 17-21 May, (1998) 840.
    
    
67. J. Wrona, M. Czapkiewicz, T. Stobiecki, Magnetometer for the measurements of the hysteresis loop of ultrathin magnetic layers, (Magnetometr do pomiaru pętli histerezy ultracienkich warstw magnetycznych), Proc. of 7^th European Conf. EMMA’98,“Magnetic Materials and Applications”, Zaragoza, Spain, 9-12 Sept., (1998) 322.
    
    
68. P. Sobaś, S. Komornicki, M. Radecka, K. Zakrzewska, RF sputtered TiO₂ thin films modified by WO₃, (Cienkie warstwy TiO₂ modyfikowane przez WO₃ otrzymywane metodą rozpylenia rf), “Inżynieria Materiałowa”, N.4, (1998) 856.
    
    
69. M. Radecka, M. Rękas , P. Sobaś, K. Zakrzewska, Transport properties of (Sn,Ti)O₂ polycrystalline ceramics and thin films, (Własnosci transportowe spieków cienkich warstw (Sn,Ti)O₂ “Inżynieria Materiałowa”, N. 4, (1998) 852.
    
    
70. M. Radecka, K. Zakrzewska, M. Rękas, SnO₂- TiO₂ solid solutions for gas sensors, (Roztwory stałe SnO₂ - TiO₂ jako sensory gazu), Sensors and Actuators B, vol. 47, (1998) 194.
    
    
71. M. Radecka, P. Pasierb, K. Zakrzewska, Cienkowarstwowe sensory gazowe na bazie tlenków o strukturze rutylu i perowskitu, (Thin film gas sensors based on oxides crystalizing in the rutile and perovskite structure), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-27 maja, (1998) 372.
    
    
72. K. Zakrzewska, M. Radecka, Struktura i własności elektronowe cienkich warstw TiO_2-x, (Electronic structure and properties of TiO_2-x thin films), Mat. I Kongr. PTP, Kraków, 25-27 maja, (1998) 366.

A list of patents

1. H. Jankowski, M. Rękas, C. Worek, B. Niewczas, Optyczny analizator substancji płynnych, (Optical analyser of fluids), Pat. Nr PL 175064, (1998).

2. K. Marszałek, D. Korzec, J. Engemann, N. Sprang, Urządzenie do zamocowywania elektrod spolaryzowanych elektrycznie, (Device for fixing electrically polarized electrodes), Pat. Nr PL 174437, (1998).